☆共JBN 外0217(産業、半導体)(02・3・1) 【産業担当デスク殿】8928 ◎上海・張江に新施設建設へ フォトロニクスが進出強化 【上海28日PRN=共同JBN】サブ周波数レチクル(フォトマスク)ソリ ューション技術の世界リーダー、フォトロニクス社(ナスダック:PLAB)は 28日、張江ハイテクパーク開発公社当局者と行った土地譲渡調印式典で、中国 への進出拡大戦略を説明した。同社は昨年、浦東外高橋保税区にフォトロニク ス・インターナショナル・トレーディング(上海)社を設立、浦東でオフィスを 運営している。完全所有外国企業(WOFE)で、最近認可された新会社、フォ トロニクス・イメージング・テクノロジーズ(上海)社は、中国の半導体産業発 展努力の中心地である張江工業団地に中国で最も進んだレクチル製造施設を建 設することを含めた計画を発表している。フォトロニクスは今後5年間で、中国 で急速に成長している半導体とウェーハー製造産業を支援するのに必要なイン フラストラクチャーと先端フォトマスク製造技術に約3億ドルを投入する計画 だ。 フォトロニクスの第1号メガフォトマスク製造施設建設は今年後半の早い段 階で始まり、来年第1四半期の初めまでに完成するはずだ。上海市のツオ・ユー ペン副市長は「世界をリードするハイテク企業の1つ、フォトロニクスを張江に 誘致できて喜んでいる。同社は中国で急速に進展している半導体産業の成功に主 要な役割を演じる」と語った。 張江ハイテクパーク開発公社のダイ・ハイボ総裁は「半導体産業パークに同 社が建設を決断したことを大変喜んでいる。この地域は半導体製造業のまさに中 心地であり、フォトマスク技術の有力サプライヤーが関与することが必要だっ た」と述べた。 フォトロニクスのコンスタンチン・マクリコスタス会長兼最高経営責任者(C EO)は「上海は開発初期段階の台湾・新竹を思い出させる。これほど多くの新 しいウエハーー製造プロジェクトが積極的に開発されている半導体製造地域は どこにもない。当社はこの5年間で、新しいフォトマスク製造工場を5件、建設 している。中国の拡大する顧客が半導体製造インフラストラクチャーを築き上げ る中で、当社の経験、特許を持つ処理技術、顧客サービス重視はその成功の決定 的な要因になろう」と語った。 同社は2万2000平方メートルの土地を取得、3階建て1万8000平方メ ートルの施設を建設する。これには130ナノメーターをはるかに超える技術ノ ードを支援できる3000平方メートルの最先端クリーンルームが含まれる。当 初の計画では米政府が承認した250ナノメーターという最先端技術を支援す る製造能力に合致する施設の建設が要請されている。同社は政府の承認を受け次 第、もっと進んだ技術ノードを支援する。 最初に設置される製造ラインにはアプライド・マテリアルのALTA3500 と3700レーザー・リソグラフィー・ツール、日立のエレクトロンビーム・リ ソグラフィー・システム、KLAテンカーの検査システムや、サブ周波数製造プ ロセスを支援するその他すべての機器が含まれる。同社は要請次第で中国顧客の 加速する要求を支援するため、製造システムと処理技術の性能を向上させる。さ らに中国の半導体設計と製造企業が求めている重要なデータ統合と光学拡張サ ービスも提供する。中国のインフラストラクチャーが開発段階にあるため、中国 は追加の設計統合とリソグラフィー・モデリングを求めている。 フォトロニクスのダン・デル・ロザリオ上級副社長(アジア担当)は「上海は アジアの次なる有力半導体製造地域として台頭している。10年後までに、シリ コン・シティーとよく言われる上海は30以上のウエハー工場を持つ計画だ。新 世代の半導体とレクチル技術者を目指し、エンジニアと技術者を積極的に卒業さ せている中国全土の無数の大学によって、設計と製造に必要なタレント需要が支 援されよう。さらに半導体の国内需要が設計活動の膨大な量を刺激し、中国は当 社の戦略的成長計画で重要な部分を占めると期待される。第1号のメガフォトマ スク製造工場建設決定は顧客から歓迎されており、他社との重要な戦略的関係の 確立と交渉の継続をもたらしている」と語った。 グレース半導体製造会社(GSMC)のナサ・ツアイ社長兼最高執行責任者(C OO)は「フォトロニクスは当社の非常に重要なパートナーであり、その進出は 当社が製造企業として成功する上で不可分だろう。130ナノメーター・ノード に至るまでの証明済みレチクル技術サプライヤーとして、当社が政府の認可を受 け次第、もっと進んだ技術ノードに移行しても、同社はわれわれの要求に応じて くれると確信している」と述べた。 エース半導体(上海)社のピン・ニー会長兼CEOは「フォトロニクスは設計 からテスト、包装に至るまで、当社の総合的な統合ソリューションの中で重要な 要因だ。そのパートナーが最新施設を張江に建設し、高性能半導体製造の有力な 中心地になると信じている場所で、われわれに加わることに興奮している」と述 べた。 ▽フォトロニクスについて フォトマスクの世界的に有力なメーカー。フォトマスクは電子回路の微細な画 像を含んだ高精密水晶板だ。半導体製造の主要要素であるフォトマスクは統合回 路を製造する際に、回路パターンを半導体ウエハーに移すのに利用される。アジ ア、欧州、北米に戦略的に配置された製造施設で、顧客が提供する回路設計に従 って製造される。詳しい情報はwww.photronics.comまで。 (了) ▽問い合わせ先 Michael Mccarthy,VP-Corporate Communications of Photronics,Inc 1-203-775-9000, mmccarthy@brk.photronics.com Jane Ryan,Account Director of MCA 1-650-968-8900, jryan@mcapr.com Photronics Announces Major Expansion into China; Leading-Edge Mega-Photomask Fac ility Being Built in Shanghai SHANGHAI, Feb. 28 /PRN=KYODO JBN/-- Photronics, Inc. (Nasdaq: PLAB), the world's leader in sub-wavelength reticle solution technology, today outlined its strategy for expansion into China during a land grant signing ceremony with officials from the Zhangjiang Hi-Tech Park Development Corp. The Company established Photronics International Trading (Shanghai) Co., Ltd. in Waigaoqiao Free Trade Zone last year and has been operating an office in Pudong. The recently approved new company, Photronics Imaging Technologies (Shanghai) Co., Ltd., a wholly owned foreign enterprise (WOFE), has announced plans that include building China's most advanced reticle fabrication facility in the Zhangjiang Semiconductor Industrial Park, the center of the country's semiconductor industry development efforts. Over the next five years, Photronics plans to deploy approximately $300 million in infrastructure and advanced photomask manufacturing technologies necessary to support China's rapidly growing semiconductor and wafer foundry industries. Construction of Photronics' first mega-photomask fabrication facility will begin early in the second half of this year and should be completed early in the first quarter of 2003. Zhou Yu Peng, Vice Mayor of Shanghai stated, "Shanghai is pleased to welcome Photronics, one of the world's leading high technology companies, to Zhangjiang. Photronics will play a key role in the success of China's rapidly developing semiconductor industry." Chairman Dai Hai Bo, Shanghai Zhangjiang Hi-Tech Park Development Corp. added, "We are extremely pleased with Photronics' decision to build in the Zhangjiang Semiconductor Industrial Park. This area is at the very center of semiconductor manufacturing and we needed the commitment of a leading supplier of photomask technology." Constantine "Deno" Macricostas, Chairman and Chief Executive Officer of Photronics stated, "Shanghai is reminiscent of Hsinchu, Taiwan at its earliest stages of development. No other semiconductor producing region on the planet has as many new wafer fabrication projects actively being developed." He added, "Photronics has built five new photomask fabs over the last five years. As our growing base of Chinese customers build out their semiconductor manufacturing infrastructure, our experience, proprietary process technologies, and focus on customer service will be critical elements in their success." Photronics obtained a land grant for a 22,000 square meter parcel of land and will build a three story, 18,000 square meter facility, including over 3,000 square meters of state-of-the-art clean room space, which will be capable of supporting technology nodes well beyond 130 nanometer. As outlined, initial plans call for the Company to match its manufacturing capabilities to support the most advanced technologies that have been approved by U.S. governmental authorities, currently 250 nanometers. Photronics will support more advanced technology nodes as they receive governmental approval. The first manufacturing lines installed will include Applied Materials' ALTA 3500 and 3700 laser lithography tools, Hitachi electron beam lithography systems, KLA-Tencor inspection systems, and all other equipment that support Photronics' sub-wavelength manufacturing processes. The Company will upgrade its manufacturing systems and process technology, as required, to support the accelerating requirements of our Chinese customers. Additionally, Photronics will provide critical data integration and optical extension services required by Chinese semiconductor design and foundry companies. China requires additional design integration and lithography modeling because China's infrastructure is in its development phase. Dan Del Rosario, Senior Vice President-Asia for Photronics noted, "Shanghai is emerging as Asia's next preeminent semiconductor manufacturing region. By the end of this decade, Shanghai, often referred to as Silicon City, plans to have more than 30 wafer fabs in production. The demand for design and manufacturing talent will be supported by the numerous universities throughout China now aggressively graduating engineers and technologists for China's new generation of semiconductor and reticle technologists. Furthermore, the burgeoning domestic demand for semiconductors is expected to stimulate tremendous amounts of design activity, making China a significant part of our Company's strategic growth plans. Our decision to establish Photronics' first mega-photomask fab locally has been warmly received by customers and has lead to the formalization of several key strategic relationships and continuing discussions with others." Nasa Tsai, President and Chief Operating Officer of Grace Semiconductor Manufacturing Corporation (GSMC) commented, "Photronics is a very important partner of GSMC and their presence will be an integral part of our success as a foundry. As a proven reticle technology supplier down through the 130 nanometer node, we are confident that they will meet our requirements as we receive government approvals to migrate to more advanced technology nodes." Ping Nieh, Chairman and Chief Executive Officer, Ace Semiconductor (Shanghai) Co. Ltd. added, "Photronics is an important element in Ace Semiconductor's total integration solution, from design through test and packaging. We are excited that our partner is establishing its newest facility in Zhangjiang, joining us in what we believe will be a leading center in the production of high performance semiconductors." Photronics is a leading worldwide manufacturer of photomasks. Photomasks are high precision quartz plates that contain microscopic images of electronic circuits. A key element in the manufacture of semiconductors, photomasks are used to transfer circuit patterns onto semiconductor wafers during the fabrication of integrated circuits. They are produced in accordance with circuit designs provided by customers at strategically located manufacturing facilities in Asia, Europe, and North America. Additional information on the Company can be accessed at www.photronics.com. "Safe Harbor" Statement under the Private Securities Litigation Reform Act of 1995: Except for historical information, the matters discussed in this news release that may be considered forward-looking statements may be subject to certain risks and uncertainties that could cause the actual results to differ materially from those projected, including, but not limited to, uncertainties in the market, pricing competition, procurement and manufacturing efficiencies, described in the Company's Annual Report on Form 10-K for the year ended October 31, 2001 under the caption "Forward Looking Information" and other risks detailed from time to time in the Company's other SEC reports. The Company assumes no obligation to update the information in this release. SOURCE Photronics, Inc. /CONTACT: Michael W. McCarthy, VP - Corporate Communications of Photronics, Inc., +1-203-775-9000, mmccarthy@brk.photronics.com, or Jane Ryan, Account Director of MCA, +1-650-968-8900, jryan@mcapr.com/ /Web site: http://www.photronics.com/ (PLAB) |