◎モレキュラー・インプリンツ社が450mmリソグラフィー完全支援

AsiaNet 51870

共同JBN 0048 （2013.1.18）

【オースティン（米テキサス州）2013年1月18日PRN＝共同JBN】最先端半導体リソグラフィーのテクノロジーリーダーであるモレキュラー・インプリンツ社（Molecular Imprints, Inc.）（http://www.molecularimprints.com）は18日、450mmシリコンウエハー基板のパターニング能力のある初の最新リソグラフィー・プラットフォームを出荷すると発表した。Imprio（登録商標）450は2012年末時点で半導体メーカーに採用され、現在は半導体業界によるより低コスト450mmへの移行に供する（http://www.molecularimprints.com）ため、複数年ウエハーサービス契約の一環として450mmシリコンウエアハーのプロセス開発要求を支援するため使われている。インテル社（Intel Corporation）のロバート・E・ブルック本社副社長兼Technology Manufacturing Engineering（TME）ゼネラルマネジャーは、1月14日に米カリフォルニア州ハーフムーンベイで開かれた米半導体製造装置材料協会（SEMI）主催のIndustry Strategy Symposium でこれら初の完全パターン化450mmウエハーの一つを展示公開した。

　（Photo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20130117/CL44052-a）

　（Photo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20130117/CL44052-b）

　（Logo:  http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO）

モレキュラー・インプリンツのマーク・ミリア－スミス社長兼最高経営責任者（CEO）は「半導体装置およびメーカーの供給チェーンは、このような過渡期にあっては製品とプロセスを開発、最適化するため高品質の完全パターン化された450mmウエハーに早期にアクセスできなければならない。当社特許のJet and Flash（商標）Imprint Lithography（J-FIL（商標））（http://www.molecularimprints.com）技術は、業界が要望する450mm移行の要件に応えることができる現在利用可能な唯一のリソグラフィー・ソリューションである。J-FIL（商標）技術は、単純なシングルパターン化による段階的プロセスに使う10nmへの拡張性を備える極めて優れたラインエッジラフネス（2nm LER, 3 sigma）およびクリティカルディメンジョン（CD）均一性（1.2nm CDU, 3 sigma）による24nmパターニングを実証した。Imprio（登録商標）450プラットフォームは、新たな段階の汎用の基板チャックデザインであり、中断なく継続的に300mmおよび450mmウエハーを処理できる。このグローバルなイニシアチブをサポートできる今回の最新鋭リソグラフィー技術が利用可能になったことで、半導体業界が450mmウエハーに移行するのを少なくとも2年間は早めることになる。複数年かつ数十億ドルの光リソグラフィー開発計画が標準になるような時代にあって、われわれは顧客の発注を受けてからわずかに1年で最新のナノインプリント・プラットフォームを設計、組み立て、配送することができる。私はこのように真に画期的な成果の達成を支援してくれた当社チーム、当社の半導体顧客、供給チェーンに特に感謝の意を表したい」と語った。

J-FIL固有の所有コスト（CoO）の利点は、消費電力を限定するEUV光源、複雑な光学レンズとミラー、超高感度フォトレジストを使う難しい画像化処理を避けることによって達成し、半導体メモリー製造とよく調和する。この新しい450mmパターニング・システムの採用は、当社の最近の多くのモジュール受注の発表と合わせて、モレキュラー・インプリンツがJ-FIL技術を最先端CMOSデバイスの量産にセットする方向に大きく前進していることを表している。

▽モレキュラー・インプリンツ社（Molecular Imprints, Inc.）について

モレキュラー・インプリンツ（MII）は半導体、ディスプレー、ハードディスクドライブ（HDD）業界の高解像度、低所有コストのナノパターニング・システムおよびソリューションのテクノロジーリーダーである。MIIは革新的なJet and Flash（商標）、Imprint Lithography（J-FIL、商標）技術と IntelliJet（商標）材料アプリケーションを活用して、ストレージ、メモリー機器の大量パターニング・ソリューションの世界的な市場、テクノロジーリーダーとなるとともに、ディスプレー、クリーンエネルギー、バイオテクノロジー、その他業界での新興市場を可能にしている。MIIは手ごろな価格で互換性があり、サブ10nm解像度まで拡張可能な包括的なナノパターニング・ソリューションを提供して、ナノスケールのパターニングを可能にしている。

詳しい情報、ツイッターでのフォローはhttp://www.molecularimprints.comを参照。

▽本社PR接触先

Paul Hofemann

Molecular Imprints, Inc.

+1-512-339-7760 X311

phofemann@molecularimprints.com

ソース：Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) Delivers Industry's First 450mm Advanced Lithography System to a Leading Semiconductor Manufacturer in Support of the G

PR51870

Molecular Imprints, Inc. (MII) Delivers Industry's First 450mm Advanced Lithography System to a Leading Semiconductor Manufacturer in Support of the Global 450mm Initiative

AUSTIN, Texas, Jan. 18, 2013 /PRN=KYODO JBN/ --

   - MII's J-FIL(TM) Technology Accelerating the Semiconductor Industry's

         Adoption to 450mm Manufacturing by 2 Years

Molecular Imprints, Inc., a technology leader in advanced semiconductor

lithography (http://www.molecularimprints.com/ ), today announced the delivery

of the first advanced lithography platform capable of patterning 450mm silicon

wafer substrates.  The Imprio(R) 450, was  accepted by a leading semiconductor

manufacturer at the end of 2012 and is now being used to support the 450mm

wafer process development demands as part of a multi-year wafer services

contract to facilitate the semiconductor industry's transition to lower cost

450mm (http://www.molecularimprints.com/ ) wafer production.  Robert E. Bruck,

corporate vice president and general manager of Technology Manufacturing

Engineering (TME) Intel Corporation showcased one of these first fully

patterned 450mm wafers during SEMI's Industry Strategy Symposium (ISS)

(http://www.semi.org/en/ )at Half Moon Bay, California on January 14th, 2013.

(Photo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20130117/CL44052-a )  

(Photo: http://photos.prnewswire.com/prnh/20130117/CL44052-b )  

(Logo:  http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO )

"The semiconductor equipment and manufacturer supply chain must have early

access to high quality, fully patterned 450mm wafers in order to develop and

optimize their products and processes in time for this transition", said Mark

Melliar-Smith, President and CEO of Molecular Imprints.  "Our proprietary Jet

and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM))

(http://www.molecularimprints.com/ )technology is the only lithographic

solution available today that can meet the demanding fine feature requirements

of the industry's 450mm transition .  J-FIL(TM) technology has demonstrated

24nm patterning with exceptional line edge roughness (＜2nm LER, 3 sigma) and

critical dimension uniformity (1.2nm CDU, 3 sigma) with extensibility to 10nm

using a simple single patterning step process.  The Imprio(R) 450 platform has

a new stage and universal substrate chuck design that enables both 300mm and

450mm wafers to be processed without interruption.  Having this advanced

lithography available now to support this global initiative will accelerate the

semiconductor industry's transition to 450mm wafers by at least two years.  In

an era where multi- year and multi-billion dollar optical lithography

development programs are becoming the norm we were able to design, build and

deliver an advanced nanoimprint platform in just one year from receiving the

customer's purchase order.   I want to give a special thanks to the teams at

Molecular Imprints, our semiconductor customer, and our supply chain that

helped us realize this truly remarkable achievement."

J-FIL's inherent Cost of Ownership (CoO) advantages achieved by avoiding power

limited EUV light sources, complex optical lenses and mirrors, and difficulties

with imaging using ultrasensitive photoresists, make it well aligned with

semiconductor memory manufacturing.  This new 450mm patterning system

acceptance coupled with our recent multiple module order announcement

underscores Molecular Imprints tremendous progress towards placing J-FIL

technology into high volume production of advanced CMOS devices.  

About Molecular Imprints, Inc.

Molecular Imprints, Inc. (MII) is the technology leader for high-resolution,

low cost-of-ownership nanopatterning systems and solutions in the

semiconductor, display and hard disk drive (HDD) industries.  MII is leveraging

its innovative Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) technology

with IntelliJet(TM) material application to become the worldwide market and

technology leader in high-volume patterning solutions for storage and memory

devices, while enabling emerging markets in display, clean energy,

biotechnology and other industries.  MII enables nanoscale patterning by

delivering a comprehensive nanopatterning solution that is affordable,

compatible and extendible to sub-10-nanometer resolution levels.  For more

information or to follow us on twitter, visit http://www.molecularimprints.com

Corporate PR Contact   

Paul Hofemann  

Molecular Imprints, Inc.   

+1-512-339-7760 X311  

phofemann@molecularimprints.com

SOURCE:  Molecular Imprints, Inc.